2012-0712-06
                                                            
                            
                                                            ナノ・材料
                                                
                            
                                        掲載日:2012/07/12                                        
                                         
                            
                        ナノ粒子配列基板の製造
                                            逢坂 哲彌                                                                                 特任研究教授                                                    (当時)                            
                                        
                                化学合成法により得られる粒径数ナノメートルの磁性粒子1つを1記録ビットとするビットパターン型垂直磁気媒体(BPM)を実現するためのナノ粒子の配列技術を提供する.図は,物理的ガイドを設けた基板上に有機分子を化学修飾して,その上にFePt粒子を並べた様子を観察したSEM像である.粒子のある程...                                
                    
                                                            
                                                                                        2012-0712-05
                                                            
                            
                                                            ナノ・材料
                                                
                            
                                        掲載日:2012/07/12                                        
                                         
                            
                        低抵抗と優れた機械強度を実現するハードゴールドめっき技術
                                            逢坂 哲彌                                                                                 特任研究教授                                                    (当時)                            
                                        
                                硬質AuNiめっき膜に炭素を導入することで、めっき薄膜の構造を非晶質化し、抵抗率を下げることなく、大幅に耐摩耗性を高めたAuNiCめっき膜作製に係る技術.                                
                    
                                                            
                                                                                        2012-0712-04
                                                            
                            
                                                            ナノ・材料
                                                
                            
                                        掲載日:2012/07/12                                        
                                         
                            
                        オールウエットULSI作製プロセス
                                            逢坂 哲彌                                                                                 特任研究教授                                                    (当時)                            
                                        
                                本技術は,シリコン基板,low-k基板,ポリイミド基板上へのバリア層形成およびその後に続く銅配線を提供する.無電解めっき法を用いて成膜したバリア膜では,6nm厚さまでの薄膜化を確認している.また無電解めっき,あるいは電気めっきを用いての微細トレンチへの銅埋め込みおよび保護層形成に成功...                                
                     
                 
                         
                         
                         
                         
                         
                         
                         
                        