電子線利用微細光学パターン作製法
背景
◆ 微細な光学パターンの簡便かつ高精度の作製技術が必要
◆ 吸収・発光特性を制御し汎用性を高めることが重要
◆ 汎用材料に新規機能を発現することが重要
◆ 吸収・発光特性を制御し汎用性を高めることが重要
◆ 汎用材料に新規機能を発現することが重要
シーズ概要
◆ 電子線照射によりナノスケール光学パターンを作製
◆ 高分子膜を原料とし特異な光学特性を発現
◆ 電子線照射量の調整により発光特性の制御を実現
◆ 高分子膜を原料とし特異な光学特性を発現
◆ 電子線照射量の調整により発光特性の制御を実現
優位性
◆ ナノメータスケールの発光パターンを実現可能
◆ 電子線照射のみで多機能発光パターンを作製可能
◆ 汎用材料を使用し安価かつ大量生産が可能
◆ 電子線照射のみで多機能発光パターンを作製可能
◆ 汎用材料を使用し安価かつ大量生産が可能
共同研究者
香村 惟夫 助手 (当時)
掲載日:
2018/10/26