ナノインプリント技術を用いた高品質GaNテンプレート基板

2014-0122-06
researcher's name
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research field
電子デバイス・電子機器,ナノバイオサイエンス,知能機械学・機械システム,電子・電気材料工学
keyword

summary

・ナノインプリント技術によるナノサイズのマスクパターン転写技術
・ドライエッチング技術によるELOに適したマスクパターン形成技術
・HVPE技術によるGaN結晶成長技術(古河機械金属(株))
・光学測定による結晶性/残留歪評価技術(金沢工業大学)

background

・高出力白色LED市場の拡大
・蛍光灯に代替できる安価で発光効率が高いInGaN系白色LEDを実現するために、安価で結晶性に優れた高品質GaN基板の開発が急務であること

predominance

・ナノインプリント技術を用いて、マスク開口部の幅をナノメーターレベルに小さくすることで転位を削減
・結晶性に優れたGaNテンプレート基板を提供

application/development

・高輝度白色LED用基板(例 固体照明、自動車ヘッドランプ、液晶バックライト等)
・電子デバイス用基板(例 インバーター、HEV,EV用パワートランジスタ)

remarks

本開発はNEDO助成事業として古河機械金属(株)、早稲田大学、金沢工業大学の共同で実施(H23-H25)

purpose of providing seeds

Sponsord research, Collaboration research, Technical consultation

material

posted: 2014/01/31