ナノインプリント技術を用いた高品質GaNテンプレート基板
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about researcher 水野 潤 客員上級研究員 (retired)
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電子デバイス・電子機器,ナノバイオサイエンス,知能機械学・機械システム,電子・電気材料工学
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summary
・ナノインプリント技術によるナノサイズのマスクパターン転写技術
・ドライエッチング技術によるELOに適したマスクパターン形成技術
・HVPE技術によるGaN結晶成長技術(古河機械金属(株))
・光学測定による結晶性/残留歪評価技術(金沢工業大学)
background
・高出力白色LED市場の拡大
・蛍光灯に代替できる安価で発光効率が高いInGaN系白色LEDを実現するために、安価で結晶性に優れた高品質GaN基板の開発が急務であること
predominance
・ナノインプリント技術を用いて、マスク開口部の幅をナノメーターレベルに小さくすることで転位を削減
・結晶性に優れたGaNテンプレート基板を提供
application/development
・高輝度白色LED用基板(例 固体照明、自動車ヘッドランプ、液晶バックライト等)
・電子デバイス用基板(例 インバーター、HEV,EV用パワートランジスタ)
remarks
本開発はNEDO助成事業として古河機械金属(株)、早稲田大学、金沢工業大学の共同で実施(H23-H25)
purpose of providing seeds
Sponsord research, Collaboration research, Technical consultation
collaborative researchers
庄子 習一 教授 (理工学術院 基幹理工学部 電子光システム学科) (retired)
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posted:
2014/01/31