表題番号：2016B-166
日付：2017/03/13
研究課題コヒーレントEUV光による高分子アブレーション過程の解明と微細構造形成
| 研究者所属（当時） | 資格 | 氏名 | |
|---|---|---|---|
| （代表者） | 理工学術院 先進理工学部 | 教授 | 鷲尾 方一 |
| （連携研究者） | 早稲田大学高等研究所 | 助教 | 坂上和之 |
| （連携研究者） | 宇都宮大学工学系研究科 | 准教授 | 東口武史 |
- 研究成果概要
- 本研究では、コヒーレンスを持つEUV光(波長13.5nm)を利用した照射試験を実施した。具体的にはパルス幅が7～10 psのEUVビームの照射試験を実施するにあたり、量子科学技術研究開発機構（量研機構：QST）関西光科学研究所のEUVビーム装置を用い,EUV光の強度を変化させるため、光ビームラインに適切な厚さのZrフィルターをセットし、アブレーションの閾値を求めた。その結果、single shotの実験においては、どちらの高分子についてもそのアブレーション閾値は3-4mJ/㎠と非常に低い値となった。