電子線利用微細光学パターン作製法

2018-1026-05
研究者名
研究者情報 井村 考平 教授
所属
理工学術院 先進理工学部
専門分野
薄膜・表面界面物性,ナノ構造科学,物理化学
キーワード

背景

◆ 微細な光学パターンの簡便かつ高精度の作製技術が必要
◆ 吸収・発光特性を制御し汎用性を高めることが重要
◆ 汎用材料に新規機能を発現することが重要

シーズ概要

◆ 電子線照射によりナノスケール光学パターンを作製
◆ 高分子膜を原料とし特異な光学特性を発現
◆ 電子線照射量の調整により発光特性の制御を実現

優位性

◆ ナノメータスケールの発光パターンを実現可能
◆ 電子線照射のみで多機能発光パターンを作製可能
◆ 汎用材料を使用し安価かつ大量生産が可能

資料

共同研究者

香村 惟夫 助手 (当時)

他のシーズ

  • 近接場光学顕微鏡での物質観察
  • 貴金属ナノ微粒子（プラズモニック物質）による光エネルギー制御
  • 近接場分光顕微装置
掲載日: 2018/10/26