集束イオンビーム（FIB）によるマスクレス直接エッチング技法

2012-0903-03
研究者名
研究者情報 鷲尾 方一 教授 (当時)
所属
理工学術院 理工学術院総合研究所
専門分野
原子力学,素粒子・原子核・宇宙線・宇宙物理,物理化学
キーワード
原子力学 、 ビーム物理 、 高分子物理 、 ナノスケール微細加工 、 集束イオンビーム(FIB)によるマスクレス直接エッチング技法

背景

■集束イオンビームによる架橋PTFEのナノスケール微細加工


代表的なフッ素樹脂のポリテトラフルオロエチレン（PTFE）は、優れた耐熱・耐薬品特性等を持ち、その優れた特性から様々な産業分野への応用がなされている。近年、耐摩耗性、耐放射線性に優れた架橋PTFEが開発され、その新たな応用として微細加工品の作製を放射光（SR）を用いて行ってきた。SRによる架橋PTFEの微細加工は高アスペクト比でシャープな加工が可能である反面、ナノスケールの微細加工を行う場合、加工精度がマスク精度に依存する等の問題点があった。

シーズ概要

本研究では、架橋PTFEのナノスケール微細加工を検討するため、集束イオンビーム（FIB）によるマスクレス直接エッチングを試みている。 作製した微細構造体のFE-SEM像を図に示す。

応用・展開

■今後の研究展開


加工スケールの微細化、微細加工体の機能化、微細パターンの転写の研究へと展開する。

優位性

加工スケールの微細性と加工精度の安定性の実現

提供目的

受託研究、共同研究、技術相談

備考

所属学会：日本放射線化学会、日本物理学会、日本化学会、高分子学会、原子力学会、ラドテック研究会

資料

  • 集束イオンビーム装置
  • 集束イオンビームによる微細加工
  • 作製した微細構造体のFE-SEM像

関連特許

  • 特願2011-052359 「微細構造体及びその製造方法」
  • 特願2010-053172 「高分子材料の微細構造体形成方法、微細構造体」

他のシーズ

  • 高品質ビーム利用実験
  • 放射線化学反応初期過程の解明 ～パルスラジオリシス実験～
  • フォトカソードRFガンを用いた逆コンプトン散乱軟X線源の開発
  • EB-NILによる極微細構造体作製
掲載日: 2012/09/03