軟磁性薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド

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研究者名
所属
専門分野
デバイス関連化学,ナノバイオサイエンス,電子・電気材料工学
特許名称
軟磁性薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド
特許番号
第4645784号
出願人
学校法人早稲田大学、富士通株式会社
出願国・地域
日本

シーズ概要

無電解めっき法による高いBsと良好な低保磁力を有するCoNiFe系の軟磁性薄膜を提供する。この軟磁性薄膜を用いた磁気ヘッドは高い書き込み能力を発揮する。
掲載日: 2013/12/25