微細パターンの作製方法

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研究者名
所属
専門分野
デバイス関連化学,ナノバイオサイエンス,電子・電気材料工学
特許名称
微細パターンの作製方法
特許番号
第4811543号
出願人
学校法人早稲田大学、富士通株式会社
出願国・地域
日本

シーズ概要

無電解メッキ浴を用いて軟磁性薄膜のパターンメッキ膜を得る際に、選択析出性の向上のため、微量の有機添加剤の添加、メッキ浴の適度の攪拌、浴中不純物の除去を行って、析出性を向上させてパターンメッキを得る。
掲載日: 2013/12/25