高血糖によるエピゲノム異常の抑制剤

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研究者名
所属
専門分野
生体分子化学
キーワード
特許名称
高血糖によるエピゲノム異常の抑制のための方法及び組成物
出願人
学校法人早稲田大学
出願国・地域
日本

シーズ概要

ヒストンのO-GlcNAc修飾を選択的に定量する方法により高血糖が引起すヒストンO-GlcNAc修飾の異常増加を抑制する化合物を見出し、そのヒストンO-GlcNAc修飾の異常増加の抑制方法及びそのための組成物、修飾の異常増加が関与する疾病に対する予防・治療のための組成物、並びに健康の維持・増進のための方法及び組成物の提供を可能にした。

効果

高血糖が引き起すヒストンO-GlcNAc修飾の異常増加が関与する疾病に対する予防若しくは治療のための組成物又は健康の維持及び増進のための組成物若しくは方法が提供出来る。

応用・展開

高血糖が引き起すヒストンO-GlcNAc修飾の異常増加が関与する疾病に対する予防若しくは治療のための組成物又は健康の維持及び増進のための組成物若しくは方法が提供出来る。

優位性

細胞に取り込まれたグルコースの一部はヘキソサミン合成経路を経てUDP-GlcNAc(uridine diphosphate N-acetylglucosamine)に変換され、タンパク質のO-GlcNAc修飾の供与体として使われる。そして、UDP-GlcNAc量はグルコース量に比例して増減することが知られている。しかし、エピジェネティクスにおけるUDP-GlcNAcの関与や疾患との関連については、殆ど明らかにされていない。また、これらの機序に基づく健康の維持及び増進のための方法、疾患の予防及び治療方法並びにそのための組成物も知られていなかった。本発明は、ヒストンのO-GlcNAc修飾を選択的に定量する方法により高血糖が引起すヒストンO-GlcNAc修飾の異常増加を抑制する化合物を見出し、そのヒストンO-GlcNAc修飾の異常増加の抑制方法及びそのための組成物、修飾の異常増加が関与する疾病に対する予防・治療のための組成物、並びに健康の維持・増進のための方法及び組成物の提供を可能にした。

提供目的

共同研究、技術相談、知財ライセンス

共同発明者

新井 大祐 次席研究員 , 塩田 邦郎 , 早川 晃司

掲載日: 2015/10/28