軟磁性薄膜及びその製造方法並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド

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研究者名
所属
専門分野
デバイス関連化学,ナノバイオサイエンス,電子・電気材料工学
特許名称
軟磁性薄膜及びその製造方法並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド
特許番号
第4041948号
出願人
学校法人早稲田大学、富士通株式会社
出願国・地域
日本

シーズ概要

高速書き込み可能化のため、無電解めっき法によるCoNiFeB軟磁性薄膜の高比抵抗化の検討を行ない、高ρを有し、かつ非常に高いBs及び低いHcを併せ持つ無電解CoNiFeB軟磁性薄膜の作製が可能となった。
掲載日: 2013/12/25