電子線利用微細光学パターン作製法

1976
researcher's name
affiliation
research field
薄膜・表面界面物性,ナノ構造科学,物理化学
keyword
patent name
発光体の製造方法、発光体、真偽判別体、メモリ媒体、及びマスクパターン形成方法
applicants
学校法人早稲田大学
region
日本

summary

・電子線照射によりナノスケール光学パターンを作製
・高分子膜を原料とし特異な光学特性を発現
・電子線照射量の調整により発光特性の制御を実現

effect

・ナノメータスケールの発光パターンを実現可能
・電子線照射のみで多機能発光パターンを作製可能
・汎用材料を使用し安価かつ大量生産が可能

purpose of providing seeds

Sponsord research, Collaboration research, Technical consultation, IP licensing

material

  • 応用例
  • 作製例

collaborative inventors

香村 惟夫 助手

posted: 2018/06/12